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            當前位置:首頁產品中心加工定制服務大型儀器設備無掩膜數字光刻機 MCML-120A

            無掩膜數字光刻機 MCML-120A

            產品簡介

            無掩膜數字光刻機 MCML-120A采用數字微鏡 (DMD) 的無掩膜掃描式光刻機,365nm波長

            直接從數字圖形生成光刻圖案,免去制作掩模板的中間過程,支持直接讀取GDSII和BMP文件

            全自動化的對焦和套刻,易于使用

            產品型號:
            更新時間:2024-12-05
            廠商性質:經銷商
            訪問量:1642
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            品牌其他品牌價格區間面議
            組件類別光學元件應用領域綜合
            參數見參數表

            無掩膜數字光刻機 MCML-120A產品特點

            采用數字微鏡 (DMD) 的無掩膜掃描式光刻機,365nm波長

            直接從數字圖形生成光刻圖案,免去制作掩模板的中間過程,支持直接讀取GDSII和BMP文件

            全自動化的對焦和套刻,易于使用

            晶圓連續運動配合DMD動態曝光,無拼接問題。全幅面絕對定位精度0.1um

            套刻精度: 0.2um

            500 nm / 1 um分辨率,100mm x 100mm最大幅面(4~6寸晶圓),滿幅面曝光時間5~30分鐘

            500um最小線寬

            可灰度曝光(128階)

            尺寸小巧,可配合專用循環裝置產生內部潔凈空間

            無掩膜數字光刻機 MCML-120A

            通用參數

            應用

            微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等試制加工

            帶有2.5D圖案的微光學元件,衍射光器件制作

            教學、科研


            參數


            MCML-110A

            MCML-120A

            Wavelength 波長

            365nm

            365nm

            Max. frame 最大幀

            100mm x 100mm

            100mm x 100mm

            Resolution 分辨率

            1.0um

            500nm

            Grayscale lithography

            灰度光刻

            64 levels

            128 levels

            Max exposure

            最大曝光量

            500mJ/cm2

            2000mJ/cm2

            Alignment accuracy

            對準精度

            <200nm

            <100nm

            field curvature

            場曲率

            < 1 um

            < 1 um

            Speed

            速度

            5mm2 /sec

            2.5mm2 /sec

            Input file

            輸入文件

            BMP, GDSII

            BMP, GDSII

            Z level accuracy

            Z級精度

            <1 um

            <1 um

            Environment

            環境

            20~25℃

            20~25℃


            樣品





            (SU8-2002, 2um膠厚,2寸硅基底)




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